光學(xué)薄膜清洗用超純水設(shè)備在設(shè)計(jì)上，采用成熟、可靠、先進(jìn)、自動(dòng)化程度高的兩級(jí)RO＋EDI＋精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質(zhì)確保處理后出水電阻率達(dá)到18.2 MΩ.cm。關(guān)鍵設(shè)備及材料均采用國(guó)際主流先進(jìn)可靠產(chǎn)品，采用PLC控制，全套系統(tǒng)自動(dòng)化程度高，系統(tǒng)穩(wěn)定性高。大大節(jié)省人力成本和維護(hù)成本，水利用率高，運(yùn)行可靠，經(jīng)濟(jì)合理。